上海微电子28nm光刻机 国产光刻机的落后是什么原因

上海微电子28nm光刻机，据报道，上海微电子装备有限公司将于2021年实现28nm光刻机的量产，目前国产最好的光刻机是90nm。28nm光刻机的成功量产，对于国产光刻机来说，具有里程碑的意义。因为90nm光刻机对于目前的芯片来说真得不够用，而28nm光刻机对于目前的部分芯片来说，还是够用的。像现在的手机处理器已经发展到5nm水平，今年即将发布的麒麟1020处理器与苹果A14处理器采用的就是5nm工艺制程。即使目前一些中端5G处理器也在使用7nm工艺制程，28nm芯片只有一些百元机还在使用。

目前最好先进的国产光刻机就是由上海微电子装备有限公司生产的90nm光刻机，上海微电子装备有限公司需要到2021年才可以实现28nm光刻机的量产。而世界上最先进的光刻机已经发展到5nm技术，28nm光刻机应该是10年前的水平了。

即使上海微电子装备有限公司生产出28nm的光刻机，我们依然有世界顶级的光刻机有着很大差距，更不能从根本上解决我国光刻机现有的问题。当然我们也不能因为这，停止研发光刻机，光刻机的研发并不是一蹴而就的，需要长期的技术积累，连28nm的光刻机都研究不出来，何谈5nm光刻机。所以国产光刻机也需要一步步的来来。

其实国产光刻机研发的时间还是比较早的，我国做出第一台光刻机的时候，荷兰的ASML公司都没有成立。然而到了80年代，我国很多企业有了“买办”的思想，很多企业认为自己租研发会消耗掉大量的人力与物力资源，同时企业也需要承担很大的风险。不如直接组购买国外的光刻机，这样还能省下不少的资金，企业不用承担风险。所以自从那时起，我国的光刻机技术与国外的光刻机差距越来越大了。

在1996年，以西方国家为主的33国家在奥地利维也纳签署了《瓦森纳协定》。这33个国家之间可以实现技术的共享，但是如果他们其中的一个国家要向非成员国出售关键技术或者关键零部件时，需要经过其他成员国的同意才可以进行出售。这也是制约我国光刻机发展的根本原因，很多光刻机的零部件以及技术我们都买不到，所以我们只能靠国内的公司。

在2018年时中芯国际就向ASML订购了一台EUV光刻机，已经到2020年了，中芯国际还没有收到这台光刻机，其中就是因为美国的阻挠。

既然我们买不到关键的零件，只能我们自己去做。国产光刻机的发展并不是靠一家公司就可以完成的，需要我国整个半导体行业的共同努力。

中国这个28纳米国产的光刻机交付使用，意味着中国一下子从90纳米的技术水平跃升到了28纳米，实际上跨越了三代的进步，这是一个里程碑式的意义。当然对于世界电子格局也会产生竞争的，这样的一个格局，因为毕竟28纳米一些，仅次于荷兰的7纳米光刻机排名全世界二流水平。

那么既然是从90纳米一下子能够跃升到二十八纳米，就说明中国光刻机制造的技术水平还是非常厉害的，虽然说光刻机是荷兰生产的，但其实它集合了很多国家的最精尖端技术的一个组成，其中90%的零部件都是来源于欧美的发达国家，所以说最终才能制造出光刻机，但是我们国家几乎是凭一己之力完成光刻机的制造，所以说竞争力是不言而喻的。

其实28纳米对于绝大多数民用甚至军用产品完全是够用了，只不过没有达到世界最先进的水平，除了手机领域，包括电脑芯片领域可能会有些落后之外，实际上在剩下的其他领域几乎都可以做到比较先进的水平，所以说芯片，已经不能够制约我们国家经济发展的一个障碍。未来我相信用不了几年时间，可能就会赶超世界上最先进的光刻机制造水平。我们可以拭目以待。