中国微电子28nm光刻机 意义重大表现在以下几个方面

中国微电子28nm光刻机意义重大，表现在以下几个方面：

第一28nm光刻机只是开始，但是我们迈出第一步，就会有第二步。几年前，我国光刻机只处于90nm的技术范围，而现如今已经实现较大的突破。也许未来一二年速度更快，技术更好。达到国际先进水平甚至超越都有可能!

第二位，很多人认为28nm光刻机只能生产28nm的芯片，其实这种理解是完全错误的。28nm的光刻机通过多重曝光，就能实现更为先进的制程芯片的生产制造，不仅能生产28nm芯片外，经过多重曝光就能生产14nm、12nm，10nm等芯片。

如果有了更好的配套设施，通过多重曝光甚至可以实现7nm制程芯片生产。但是这个过程相比先进的光刻机比较繁琐，也确实不如台积电的设备。

第三，在2004年以前我们没有刻蚀机，后来中微半导体成立了，由归国博士尹志尧创建，他带领团队把刻蚀机从65nm做到现在的5nm，一直保持在世界领先水平。光刻机也会像刻蚀机一样，我们的速度会越来越快。

最后，其实对于科技的发展，我们从未被卡住过脖子，原子弹，氢弹，卫星，航空航天，航母等等。只要我们敢于拼搏。什么都不是问题!

也许三年，也许二年。但是绝对有这一天！希望这一天快点到来!加油！！！

首先那个不叫28纳米光刻机。Asml也没有28纳米光刻机。它光源的波长是193纳米。更短的波长会被介质吸收。所以没有波长193纳米以下的duv光刻机。

用193纳米的光刻机，可以最高做到7纳米的工艺。

所以半导体也不光是光刻机的问题。晶圆代工厂的工艺水平也很重要。

这个就是Duv光刻机。至于有些说它不行的可以歇歇了。上海微电子十年来累计投资只有6亿人民币，还不够买一台Euv光刻机。正因为投资力度太小，今天中国半导体产业才如此被动。不要有意无意的做了西方国家吓阻中国的帮凶。

凡是“中国永远做不出来”的东西，都是中国应该全力投入去做的东西。人家吓阻你，正说明它重要，而且可能并没有想象的那么难，正是因为中国可能会做出来，所以他们才吓阻。

最后，对产业进行指导，高瞻远瞩的话就别说了，连光刻机的性质都没搞清楚，让外行人误以为你是专家，多不好。

对我不懂的东西，我倾向于认为别人能做出来。研发从来都是有困难的，不可能一帆风顺，但只要投入够大，决心够大，一定能搞出来。

中国进口最多的类别，就是半导体。几千亿美元的级别。到第十之后，就是几十亿美元的级别了。跟国家经济规模的量级相比，可以忽略不记。

也就是说，半导体之争，就是经济领域的决战。过了这关，美国可以投降了。没有什么再能卡中国脖子，只能看着中国慢慢骑到他们脖子上拉shi撒niao。

这么重要的产业，国家不可能现在还看不清楚。所以，外行人怎么认为，根本无关紧要。倒是我们，看清未来的方向，能让自己不去做错的选择。