上海微电子28nm光刻机 在国内相关领域是个什么水平

上海微电子28nm光刻机，上海微电子在国内光刻机领域确实走在了前面，根据有关消息，上海微电子将在明年交付首台国产的28nm光刻机，真的非常不易。

光刻机进入普通老百姓视野，主要是因为ASML生产，可以用来支撑5nm/3nm的EUV光刻机，但是以中芯国际为例，目前营收的大头，依然来自40nm及以上的工艺制程，最先进的14nm制程贡献的营收还是比较小，所以说28nm光刻机已经可以完成80%以上的流片需要。

这个具有非常重要的战略意义，就是说在极端情况下，我们不至于完全生产不了任何芯片。

再来看上海微电子在国内相关领域是个什么水平？

目前上海微电子作为国内光刻机领域当之无愧的带头大哥，占据国内80%以上光科技市场，相关专利申请超过2400项，已经形成了非常高的专业壁垒，暂时看不到可以挑战的企业，可谓是一家独大，但是可以说，上海微电子承担的责任更大，特别是当前的大环境下面，制程工艺向下走，突破的难度越来越大了。

上海微电子作为国内光刻机领域的领军单位，目前的形势，既是挑战，也是机遇了。

首先上海微电子可以生产光刻机确实已经不是什么惊天秘密了，因为他早在2002年就有成立了，很多人也许没有听说过，原因实际就在于工艺方面相对落后，所以不被人们所熟知，因为确实相对于现在手机处理器方面的工艺来说，他目前最高可以生产90nm的技术，确实有些不够看，但是在国内确实是顶尖的存在。

一方面是因为，确实做光刻机的国家确实不多。之前的市场，荷兰的ASML，以及日本的佳能，尼康等等。ASML的成功源自于他吸收了各个行业的精英，要想使用就要入股，同时他使用的技术，比如计量设备和光源来自美国、镜头和精密仪器来自德国、轴承来自瑞典等等，他们都是行业的翘楚，之所以如此，他才发展到现在的强大。

而日本尼康和佳能，确实也算是佼佼者，因为日本本身做精密电子技术确实很强，再加上光刻机所需要的镜片，以及光源等等，确实对于做相机出身的佳能和尼康来说，并不算是难事，但是现在佳能和尼康已经退出了光刻机市场，原因就在于没有了市场，高不成低不就，虽然不错，但是相比ASML确实有很大差距，所以销量很低，本身光刻机确实每年生产数量有限，再加上设备价格相对比价高，如果没有订单，或者是订单较少，确实就意味着只能淘汰出局。所以说起来现在，做光刻机的国家确实屈指可数。

二方面，也是因为我们刚才说的，现在光刻机市场确实基本上被ASML垄断了，所以竞争者很少。另外一个方面根据最新的报道称，上海微电子28nm工艺即将到来，虽然没有权威的出处，但是对于我们来说也算是增加了信心，毕竟这是一个大的跨越，因为光刻机的研发实际是分为阶段性的，理论上90nm接下来应该是60nm、45nm、40nm，接下来才是28nm，而这次上海微电子直接从90nm到28nm，确实可见其实力。如果28nm研发成功量产的话，确实我们光刻机技术在世界上就算是站稳了脚跟。

光刻机工艺方面确实难度比较大，比如零件甚至达到了10万个左右，同时需要系统协同工作，但是最重要的几个方面，我们已经慢慢在解决，比如这次28nm工艺的背后实际就是我们的企业，有北京科益虹的光源系统、国望光学的镜头、华卓精科的浸入式双工作台、浙江启尔机电的浸液系统等等。

我们现在顶级的差距还是比较大的。现在ASML最高可以生产5nm工艺，而且产品方面，比如苹果12上面的A14处理器，以及华为麒麟处理器9000系列都是5nm工艺，而我上海微电子即便是28nm开始量产，之后还是有很长的路要走，比如16nm/14nm，10nm，以及7nm，以及包括EUV极紫外刻技术目前来说确实也很难去解决。

首先我国可以声场光刻机已经是很早之前的事情了，只是因为工艺方面的差距，所以并不能用在，我们日常使用的电子产品中。另外一个方面在于本身光刻机技术方面确实要求极高，同时因为《瓦森纳协定》中规定高端设备或尖端技术对我国进行出口管控或技术封锁，导致我们只能进行自研发，所以和ASML相差有点大，